3.–4. November 2026 (Dresden)
An der Bartlake 5, 01109 Dresden, Germany
(Raumm: "Großer Zschirnstein")
Sprache: englisch
Silicon and Silicon-Germanium Epitaxy Users Meeting (November 3-4, 2026)
Das Silicon and Silicon-Germanium Epitaxy Users Meeting bringt Fachleute aus der gesamten Halbleiter-Wertschöpfungskette zusammen – darunter Industrieexperten, Forschende, Anlagenhersteller und Technologieanbieter. Ziel ist es, die Community rund um Si-, SiGe- und Ge-Epitaxie zu stärken und den fachlichen Austausch zu fördern.
Die Veranstaltung bietet eine Plattform für technischen Austausch, Wissenstransfer und Zusammenarbeit. Im Mittelpunkt stehen aktuelle Entwicklungen, neue Herausforderungen und innovative Lösungen entlang der gesamten Epitaxie-Wertschöpfungskette. So entstehen neue Partnerschaften und Impulse für die Weiterentwicklung der Halbleiterfertigung.
Technische Schwerpunktthemen:
Ob Sie Epitaxieanlagen entwickeln, Fertigungsprozesse optimieren, Metrologielösungen vorantreiben oder an epitaktischen Materialien forschen – das Meeting bietet eine hervorragende Gelegenheit, Ideen auszutauschen, Innovationen kennenzulernen und die Zukunft der Halbleiter-Epitaxie mitzugestalten.
(preliminary)
Silicon and Silicon-Germanium Epitaxy Users Meeting (November 3-4, 2026) - Registration deadline: October 2, 2026
Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme