Besuchen Sie unseren Vortrag auf dem SPIE Photonics West Digital Forum und erfahren Sie mehr über die Herausforderungen der monolithischen MEMS-on-CMOS Integration für Flächenlichtmodulatoren. Die MEMS-on-CMOS-Technologie ist eine Kombination aus kommerziell verfügbaren CMOS-Prozessen von Foundries mit anschließender MEMS-Bearbeitung in einer zweiten MEMS-Anlage. Das Fraunhofer IPMS nutzt die Oberflächenmikrobearbeitung auf 200-mm-Wafern für eine Vielzahl von MEMS-Bauteilen, z. B. für Flächenlichtmodulatoren (SLM).

Außerdem finden Sie uns im Exhibitor Marketplace und können dort die Gelegenheit nutzen, sich mit unseren Experten aus den Bereichen Flächenlichtmodulatoren (SLM) und Aktive Mikrooptische Komponenten und Systeme (AMS) auszutauschen.

Beiträge des Fraunhofer IPMS

Challenges of monolithic MEMS-on-CMOS integration for spatial light modulators

Dr. Christoph Hohle, Gruppenleiter Lichtmodulator-Technologie

SPIE OPTO Symposium
MOEMS and Miniaturized Systems XX Conference
Session 7 - Imaging
Paper 11697-29

Vortrag und Paper sind vom 6. bis 11. März im SPIE Digital Forum verfügbar.

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