Mikrodisplay-Reinraum

© Fraunhofer IPMS
Blick auf eine Vakuumbeschichtungsanlage im Mikrodisplay-Reinraum.

Im Bereich Mikrodisplays und Sensorik bieten wir unseren Kunden eine Vielzahl von Prozessen auf Silizium CMOS zur Forschung, Entwicklung und Pilotproduktion von OLED-Mikrodisplays und Sensoren an. Diese Prozesse stehen unter Reinraumbedingungen zur Verfügung. Unsere Arbeit konzentriert sich auf die Erzeugung von dünnen Schichten im Nanometer- bis Mikrometer-Bereich für Lichtemitter und Photodetektoren sowie deren Strukturierung. Wir verfügen über verschiedene Anlagen und Prozesse dafür. Darüber hinaus stehen auch analytische Methoden zur Schichtcharakterisierung zur Verfügung. 

  • Kombinierbarkeit unterschiedlicher Prozesse
  • Dünnschichtverkapselung
  • Waferverkapselungsprozesse, Positioniergenauigkeit ± 1µm
  • Dünnschichtabscheidung, Strukturierung und Analyse auf Waferlevel (200 mm)
  • 300 m² Reinraum Klasse 10
  • Pilotlinie OLED/OPD-on-CMOS
  • Anlagen zum Ätzen, Sputtern, Spin coating
  • Abscheidung durch thermisches Verdampfen, Elektronenstrahl, Vitex/Barix™, Dünnschichtverkapselung
  • automatisiertes Wafer-Bonden-System
  • Fotolithographie
  • Ellipsometer
  • Wafer Prober (u.a. ein Wafer Prober zur Verfügung gestellt durch die Firma EVERBEING INT´L Corporation)

Mikrodisplay Reinraum-Tour

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