Mikrodisplay-Reinraum

Im Bereich Mikrodisplays und Sensorik bieten wir unseren Kunden eine Vielzahl von Prozessen auf Silizium CMOS zur Forschung, Entwicklung und Pilotproduktion von OLED-Mikrodisplays und Sensoren an. Diese Prozesse stehen unter Reinraumbedingungen zur Verfügung. Unsere Arbeit konzentriert sich auf die Erzeugung von dünnen Schichten im Nanometer- bis Mikrometer-Bereich für Lichtemitter und Photodetektoren sowie deren Strukturierung. Wir verfügen über verschiedene Anlagen und Prozesse dafür. Darüber hinaus stehen auch analytische Methoden zur Schichtcharakterisierung zur Verfügung. 

• Kombinierbarkeit unterschiedlicher Prozesse
• Dünnschichtverkapselung
• Waferverkapselungsprozesse, Positioniergenauigkeit ± 1µm
• Dünnschichtabscheidung, Strukturierung und Analyse auf Waferlevel (200 mm)
• 300 m² Reinraum Klasse 10
• Pilotlinie OLED/OPD-on-CMOS
• Anlagen zum Ätzen, Sputtern, Spin coating
• Abscheidung durch thermisches Verdampfen, Elektronenstrahl, Vitex/Barix™, Dünnschichtverkapselung
• automatisiertes Wafer-Bonden-System
• Fotolithographie
• Ellipsometer
• Wafer Prober (u.a. ein Wafer Prober zur Verfügung gestellt durch die Firma EVERBEING INT´L Corporation)