Nanopatterning

Nanopatterning / E-Beam Lithographie

© Fraunhofer IPMS
300 mm Wafer mit Nanopatterning-Teststrukturen.
© Fraunhofer IPMS

Die maskenlose Lithografie mit der e-beam Anlage (Vistec SB3050) erlaubt die schnelle und kosteneffektive Nanostrukturierung auf Wafern mit verschiedenen Durchmessern. Das Fraunhofer IPMS bietet vom Layoutentwurf bis zur Fertigstellung des strukturierten Wafers in der CMOS-Fertigungsumgebung alle Prozessschritte für Projektpartner und Kunden an.

  • Nanostrukturierung auf verschiedenen Oxiden und Metallen
  • Multi-Level-Prozessierung
  • Mix und Match Nanopatterning
  • kundenspezifische Ätztiefen und Aspektverhältnisse auf Anfrage
  • Resist Evaluierung

Anwendungsbeispiele

  • Optik: Fresnellinsen, Holographie, Polarisierung, Sensorik, Farbfilter, Metamaterialien, Kalibrationsstrukturen, Blenden
  • Medizin:  Lab-on-Chip, Genetik, Sensorik
  • Nanoimprint Masters für NIL
  • Teststrukturen für MEMS und CMOS Anwendungen