Nanopatterning / E-Beam Lithographie



Die Herstellung von Strukturen im Nanometerbereich ist für eine Vielzahl von Anwendungen in der Halbleiterindustrie notwendig. Zentrale Herausforderungen sind die Erzeugung von präzise kontrollierten Mustern mit kleinen Abmessungen, die flexible und anpassungsfähige Layouterstellung und Prozesse sowie die einheitliche und reproduzierbare Integration auf Waferebene.
Das Fraunhofer IPMS bietet modernste Möglichkeiten der Nanostrukturierung mittels Elektronenstrahl-Direktschreiblithographie und reaktivem Ionenätzen. So können kundenspezifische Strukturen mit Größen unter 40 nm auf einer Vielzahl von Wafergrößen und Substrattypen erzeugt werden. Ausgehend vom Kundendesign wird das gesamte Paket von der Layouterstellung und -modifikation, der Datenaufbereitung, der Elektronenstrahllithographie, dem Mustertransfer mittels Ätzprozessen zusammen mit der benötigten Inline-Messtechnik und Analytik bis hin zur Separation in einzelne Chips angeboten.
Anwendungsbeispiele
- Nanostrukturierung auf verschiedenen Oxiden und Metallen
- Multi-Level-Prozessierung
- Mix und Match Nanopatterning
- kundenspezifische Ätztiefen und Aspektverhältnisse auf Anfrage
- Resist Evaluierung