Patents

List of patents of the Fraunhofer IPMS. The icons have the following meaning:

published  granted

A method and a device for reducing hysteresis or imprinting in a movable micro-element

US 6,885,493 B2, EP 1 364 246, JP 2004-520618 A

A method to detect a defective element

DE 60 2004 003 125.9-08, EP 1 583 946 B1, US 7,061,226 B2

Addressing of an SLM

US 7,072,090 B2

Akustische Wandlervorrichtung mit einem Piezo-Schallwandler und einem MUT-Schallwandler, Verfahren zum Betrieb derselben, akustisches System, akustische Koppelstruktur und Verfahren zum Herstellen einer akustischen Koppelstruktur

WO 2016/188860 A1

Anordnung von mikromechanischen Elementen

DE 50 2006 013 212.5, EP 2 024 271 B1, JP 5265530, US 8,254,005 B2

Anordnung zum Aufbau eines miniaturisierten Fourier-Transform-Interferometers für optische Strahlung nach dem Michelson- bzw. einem daraus abgeleiteten Prinzip

AT 413 765 B

Antriebsprinzip zur Erzeugung resonanter Schwingungen von beweglichen Teilen mikromechanischer Bauelemente

US 6,595,055 B1

Apparatus and Method for Guiding Optical Waves

DE 60 2010 014 412.7, EP 2 513 715 B1, JP 5398923, US 9,046,704 B2

Apparatus and method for housing micromechanical systems

US 7,898,071 B2

Apparatus and Method for Projecting Images and/or Processing Materials

US 7,518,770 B2

Apparatus for generating two-dimensional illumination patterns

US 2016/0320290 A1

Arrangement for building a miniaturized Fourier transform interferometer for optical radiation according to the Michelson principle a principle derived therefrom

US 7,301,643 B2

Auslenkbare Struktur, mikromechanische Struktur mit derselben und Verfahren zur Einstellung einer mikromechanischen Struktur

CN 101279707 B, DE 10 2007 015 726 B4

Auslenkbares mikromechanisches Element

CN 101316789 B, DE 11 2005 003 758 B4

Auslenkbares mikromechanisches System sowie dessen Verwendung

DE 11 2006 003 699 B4, US 7,841,242 B2, ZL 2006 8 0052190.5

Datenspeicherschaltung mit integrierter Datenspeichereinheit für einen Sensor mit physikalisch-elektrischem Wandler

DE 10 2008 030 908 B4

Deflectable structure, micromechanical structure comprising same, and method for adjusting a micromechanical structure

US 7,872,319 B2

Device for Protecting a Chip and Method for Operating a Chip

EP 1 499 560 B1, US 2005/0095749 A1

Druckvorrichtung zum Drucken einer dreidimensionalen Struktur

DE 10 2015 212 153 A1

Elektrostatisch auslenkbares mikromechanisches Bauelement

DE 10 2014 225 934 A1

Fluidic variable focal length optical lens and method for manufacturing the same

US 9,250,367 B2

Fourier transform spectrometer

DE 60 2005 041 090.2, EP 1 677 086 B1, US 7,733,493 B2

Gehäuse zur Verkapselung eines Mikroscannerspiegels

DE 10 2012 207 376 B3

Halbleitersubstrat und Verfahren zur Herstellung

DE 50 2006 008 141.5-08, EP 1 915 777 B1

Herstellungsverfahren

DE 50 2013 003 493.3, EP 2 892 844 B1, IT 502016000091440, DE 10 2012 217 793 A1

High energy, low energy density, radiation-resistant optics used with micro-electronical devices

CN 100380138 C, US 6,891,655 B2, EP 1 642 158 A1, KR 10-2007-0013987

Ion-sensitive field effect transistor and method for producing an ion-sensitive field effect transistor

US 7,321,143 B2

Ion-Sensitive Layer structure for an Ion-Sensitive Sensor and method for manufacturing same

CN 104422725 A

Ion-sensitive structure and method for producing the same

US 2016/0274057 A1

Ionenselektiver Feldeffekttransistor und Verfahren zum Herstellen eines ionensensitiven Feldeffekttransistors

DE 503 04 800.3-08, EP 1 601 957 B1

Ionensensitive Schichtstrucktur für einen ionensensitiven Sensor und Verfahren zur Herstellung derselben

US 9,383,334 B2, DE 10 2013 109 357 A1

Ionensensitive Struktur und Verfahren zur Herstellung derselben

EP 3 070 463 A1, DE 10 2015 204 921 A1

Ionensensitiver Feldeffekttransistor und Verfahren zum Herstellen eines ionensensitiven Feldeffekttransistors

DE 502 02 661.8-08, EP 1 436 607 B1

Ionensensitiver Feldeffekttransistor und Verfahren zum Herstellen eines ionensensitiven Feldeffekttransistors

DE 502 13 303.1-08, EP 1 583 957 B1, US 7,355,200 B2

Lichtkanal und Verfahren zum Herstellen eines Lichtkanals

DE 10 2014 210 903 A1

Memory Cell

US 9,368,182 B2

MEMS Aktuator, System mit einer Mehrzahl von MEMS Aktuatoren und Verfahren zum Herstellen eines MEMS Aktuators

DE 10 2015 200 626 B3

MEMS-Wandler zum Interagieren mit einem Volumenstrom eines Fluids und Verfahren zum Herstellen desselben

DE 10 2015 210 919 A1, WO 2016/202790 A2

Method and Apparatus for Controlling Deformable Actuators

DE 602 46 214.2, EP 1 520 201, US 7,424,330

Method and apparatus for controlling exposure of a surface of a substrate

DE 603 33 398.2, EP 1 616 211 B1, JP 4188322, US 6,956,692 B2

Method and Apparatus for Microlithography

US 6,624,880 B2

Method for generating a micromechanical structure

US 7,940,439 B2

Method for Structuring a Device Layer of a Substrate

US 8,199,390 B2

Method for the compensation of deviations occurring as a result of manufacture in the manufacture of micromechanical elements and their use

US 7,951,635 B2

Method of fabricating a micromechanical structure out of two-dimensional elements and micromechanical device

US 7,929,192 B2

Micro-optical element having a substrate at which at least one vertical step is formed at an optically effective surface, a method for its manufacture and uses

DE 60 2007 018 826.1, EP 2 089 773 A1

Microelectromechanical System for tuning Lasers

US 2016/0336720 A1

Micromechanical Device

US 7,078,778 B2

Micromechanical Device

US 9,164,277 B2

Micromechanical device with adjustable resonant frequency by geometry alteration and method for operating same

US 7,830,577 B2

Micromechanical device with an actively deflectable element

US 2016/0304333 A1

Micromechanical Element

US 8,570,637 B2

Micromechanical element and sensor for monitoring a micromechanical element

US 8,379,283 B2

Micromechanical element which can be deflected

US 9,045,329 B2

Microoptic reflecting component

US 7,490,947 B2

Mikroelektromechanisches System zum Durchstimmen von Lasern

DE 10 2014 201 701 A1, JP 2017-504973 A

Mikroelektromechanisches Translationsschwingersystem

DE 10 2010 029 072 B4

Mikromechanische Vorrichtung mit einem aktiv biegbaren Element

DE 10 2015 206 774 A1

Mikromechanisches Bauelement

DE 501 12 140.4-08, EP 1 410 047 B1

Mikromechanisches Bauelement

JP 5951640, EP 2 664 058 A1

Mikromechanisches Bauelement mit einstellbarer Resonanzfrequenz

DE 503 11 766.8-08, EP 1 613 969 B1

Mikromechanisches Bauelement mit einstellbarer Resonanzfrequenz durch Geometrieänderung und Verfahren zum Betreiben desselben

DE 10 2007 001 516 B3, ZL200710160893.6

Mikromechanisches Bauelement mit erhöhter Steifigkeit und Verfahren zum Herstellen desselben

DE 11 2007 003 051 B4

Mikromechanisches Bauelement mit Schwingkörper

AT 1 123 526, CH 1123526, DE 598 04 942.8-08, EP 1 123 526 B1, FR 1123526, GB 1123526, IT 1123526, NL 1123526

Mikromechanisches Bauelement mit Temperaturstabilisierung und Verfahren zur Einstellung einer definierten Temperatur oder eines definierten Temperaturverlaufes an einem mikromechanischen Bauelement

US 8,147,136 B2, US 8,842,356 B2, ZL 2008 1 0128792.5

Mikromechanisches Bauelement mit verkippten Elektrodenkämmen

CN 101284642 B, DE 10 2008 012 825 B4, US 7,466,474 B2

Mikromechanisches Bauelement zur Modulation von elektromagnetischer Strahlung und optisches System mit demselben

DE 10 2007 047 010 B4

Mikromechanisches Bauelement, mikromechanisches System, Vorrichtung zum Einstellen einer Empfindlichkeit eines mikromechanischen Bauelements, Verfahren zur Herstellung eines mikromechanischen Bauelements

CN 101301991 B, US 7,679,152 B2

Mikromechanisches Element

DE 10 2010 028 111 B4

Mikromechanisches Element und Verfahren zum Betreiben eines mikromechanischen Elements

DE 10 2008 049 647 B4

Mikromechanisches Element, Verfahren zu seiner Herstellung und seine Verwendung

CN 101139080 B

Mikromechanisches optisches Element mit einer reflektierenden Fläche sowie dessen Verwendung

DE 10 2005 033 800 B4, US 7,369,288 B2, ZL 200610098825.7

Mikromechanisches System mit Temperaturstabilisierung

DE 10 2008 013 098 B4

Mikrooptische Anordnung

DE 50 2005 013 490.7, EP 1 717 631 B1, US 7,301,690 B2

Mikrooptisches Element mit einem Substrat, an dem an einer optisch wirksamen Oberfläche mindestens eine Höhenstufe ausgebildet ist, Verfahren zu seiner Herstellung und Verwendungen

DE 10 2006 057 567 B4

Mikrooptisches reflektierendes Bauelement

CN 1982201 B, DE 10 2006 059 091 B4

Miniaturisiertes Fourier-Transform-Spektrometer

DE 50 2005 015 072.4, EP 1 637 850 B1

Objective

US 8,526,126 B2

Objektiv und Bildaufnahmesystem

DE 10 2010 040 030 B4

Optical apparatus of a stacked design, and method of producing same

US 8,045,159 B2

Optical device comprising a structure for avoiding reflections

CN 101281295 B

Optische Interferenzanordnung zur Einkopplung von elektromagnetischer Strahlung in einen photonischen Kristall oder Quasikristall

DE 10 2009 030 338 A1

Optische Linse mit fluidisch variabler Brennweite und Verfahren zum Herstellen derselben

DE 11 2010 005 674 T5

Optische Vorrichtung in gestapelter Bauweise und Verfahren zur Herstellung derselben

DE 10 2008 019 600 A1

Optischer Empfänger für eine optische drahtlose Kommunikation

DE 10 2013 225 611 B4

Optischer Sensor zur Vermessung von Schweißelektroden

DE 10 2015 111 644 B3

Optisches Bauelement mit einem Aufbau zur Vermeidung von Reflexionen

DE 10 2008 012 810 B4, US 7,760,414 B2

Optisches System

DE 10 2010 039 255 A1

Optoelektronisches Bauelement mit einer Leuchtdiode und einem Lichtsensor

DE 503 06 813.6-08, EP 1 597 774 B1

Oszillierend auslenkbares mikromechanisches Element und Verfahren zum Betreiben des Elementes

DE 11 2006 003 849 B4, US 7,932,788 B2

Polarization independent electro-optically induced waveguide

CN 106170732 A, US 2016/0357037 A1

Position Sensor

US 8,605,293 B2

Positionssensor

DE 10 2010 029 818 A1

Production Method

US 2015/0200105 A1

Projection apparatus for scanningly projection

US 7,847,997 B2

Projektionsvorrichtung

DE 501 05 156.2, EP 1 419 411 B1, US 6,843,568 B2

Projektionsvorrichtung zum scannenden Projizieren

ZL 2008 1 0083459.7, DE 10 2007 011 425 A1

Quasi-Statische Auslenkvorrichtung für Spektrometer

DE 502 10 665.4-08, EP 1 474 666 B1

Radiation generation device for generating electromagnetic radiation having an adjustable spectral composition, and method of producing same

US 8,351,032 B2

Readerantenne für einen Einsatz mit RFID-Transpondern

DE 10 2008 017 490 B4

Reduction of the dynamic deformation of translational mirrors using inertial masses

US 8,873,128 B2

Reduzierung der dynamischen Deformation von Translationsspiegeln mit Hilfe von trägen Massen

DE 10 2009 033 191 A1

RFID-Transponder mit einer integrierten Antennenanordnung

DE 10 2015 208 433 A1

Scanner und Verfahren zum Betreiben eines Scanners

DE 10 2005 002 190 B4, US 7,469,834 B2

Schallwandlerarray mit gekoppelten Wandlern

DE 10 2015 204 583 A1, WO 2016/146467 A1

Schutzstruktur für Halbleitersensoren

US 7,728,363 B2, DE 10 2006 052 863 A1

Semiconductor substrate and methods for the production thereof

US 8,357,944 B2

Sicherheitsmerkmal, Verfahren zum Herstellen eines Sicherheitsmerkmals und Verfahren zum Authentifizieren eines Benutzers unter Verwendung eines Sicherheitsmerkmals

DE 10 2015 212 618 A1

SLM Device and Method Combining Multiple Mirrors for High-Power Delivery

US 8,531,755 B2

SLM Height Error Compensation Method

KR 10-2009-0065477

Spectral Decomposition Device and Manufacturing the same

US 8,861,060 B2

Speicherzelle

DE 10 2014 205 130 A1

Spektralzerlegungsvorrichtung und Herstellung derselben

DE 10 2010 040 768 A1

Spektrometer

DE 502 08 089.2-08, EP 1 474 665 B1, US 7,034,936 B2

Spektrometer

US 7,027,152 B2

Spiegelobjektiv

DE 10 2008 027 518 B3

Strahlungserzeugungsvorrichtung zum Erzeugen einer elektromagnetischen Strahlung mit einer einstellbaren spektralen Zusammensetzung und Verfahren zur Herstellung derselben

DE 10 2009 046 831 B4

Substrat, das zumindest bereichsweise an einer Oberfläche mit einer Beschichtung eines Metalls versehen ist, sowie dessen Verwendung

DE 10 2005 048 774 B4

Torsion spring for micromechanical applications

US 8,511,657 B2

Torsionsfeder für mikromechanische Anwendungen

CN 1896557 B, DE 10 2005 033 801 B4

Torsionsfederelement für die Aufhängung auslenkbarer mikromechanischer Elemente

CN 101426717 B, DE 11 2006 003 854 B4

Verbinder zur leitungsungebundenen Signalübertragung

DE 10 2012 212 254 B3

Verfahren zum Herstellen eines Bauelementes mit einem beweglichen Abschnitt

DE 10 2005 002 967 B4, US 7,396,740 B2, ZL 2006 1 0005939.2

Verfahren zum Herstellen eines kapazitiven Ultraschallwandlers und Anordnung einer Mehrzahl von kapazitiven Ultraschallwandlern

DE 10 2013 223 695 B4

Verfahren zum Korrigieren der Oberflächenform eines Elements

DE 50 2006 005 949.5, EP 2 054 750 B1, JP 4777460

Verfahren zur Bestimmung von Parametern einer Proximity-Funktion, insbesondere für die Korrektur des Proximity-Effekts bei der Elektronenstrahllithografie

DE 10 2009 049 787 B4

Verfahren zur Erzeugung einer dreidimensionalen mikromechanischen Struktur aus zweidimensionalen Elementen und mikromechanisches Bauelement

DE 10 2008 012 826 B4

Verfahren zur Erzeugung einer mikro-mechanischen Struktur aus zweidimensionalen Elementen und mikromechanisches Bauelement

CN 101279711 B

Verfahren zur Erzeugung einer mikromechanischen Struktur

CN 101279712 B, DE 10 2008 013 116 B4

Verfahren zur Herstellung einer Halbleiterstruktur, bei dem eine Gate-Struktur mit einem Gate-Dielektrikumsmaterial für einen ferroelektrischen Transistor gebildet wird.

DE 10 2014 217 874 B3

Verfahren zur Herstellung eines optischen Bauteils

DE 10 2004 015 142 B3, EP 1 714 172 B1, JP 4832423

Verfahren zur Herstellung eines optischen Bauteils mittels oberflächenstrukturierender Laserbearbeitung

EP 1 714 172 B1, EP 2 003 474 B1

Verfahren zur Kompensation herstellungsbedingt auftretender Abweichungen bei der Herstellung mikromechanischer Elemente und deren Verwendung

DE 10 2006 043 388 B3

Verfahren zur Strukturierung einer Nutzschicht eines Substrats

DE 10 2008 026 886 B4, CN 101597021 B1

Verfahren, Vorrichtung und Computerprogrammprodukt zum Bestimmen eines isoelektrischen Punkts

DE 10 2014 207 730 A1

Verfahren, Vorrichtung und Computerprogrammprodukt zum Erkennen von Vorhofflimmern in einem Elektrokardiogramm

DE 10 2014 217 837 A1

Vorrichtung mit einem mikromechanischen Bauelement

DE 10 2014 201 095 A1

Vorrichtung und Verfahren zum Erzeugen einer Abbildung

DE 10 2004 050 351 B3, FI 125441 B, US 7,465,051 B2

Vorrichtung und Verfahren zum Häusen mikromechanischen oder mikrooptoelektronischen Systems

DE 10 2007 001 518 B4

Vorrichtung und Verfahren zur Bildprojektion und/oder Materialbearbeitung

DE 503 05 392.9-08, EP 1 652 377 B1

Vorrichtung und Verfahren zur Durchführung einer berührungslosen Messung am Inhalt eines Behälters

DE 10 2010 043 131 B4

Vorrichtung und Verfahren zur Erfassung eines Materials

DE 10 2013 222 349 B3

Vorrichtung und Verfahren zur Steuerung oder Regelung eines oszillierend auslenkbaren mikromechanischen Elements

US 7,977,897 B2

Vorrichtung zum Entwerfen eines mikromechanische Bauelements mit angepasster Empfindlichkeit, Verfahren zur Herstellung eines mikromechanischen Bauelements und eines mikromechanischen Systems

DE 10 2007 021 920 B4

Vorrichtung, Verfahren und System zum Prüfen eines Schallwandlers

DE 10 2015 206 225 A1

Zeilenkamera für spektrale Bilderfassung

DE 10 2006 019 840 B4, US 7,728,973 B2