Fraunhofer IPMS: Großinvestition in den Forschungsstandort Dresden

Dresden, / 10.9.2007

Gleich zwei gute Gründe zum Feiern hat das Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme (Fraunhofer IPMS): Heute werden die Erweiterung des Instituts und der neue Reinraum eingeweiht. Außerdem gibt das Fraunhofer IPMS den Startschuss für das Center for Organic Materials and Electronic Devices Dresden (COMEDD). Insgesamt geht es um Investitionen in Höhe von 75 Millionen Euro.

Der neue Reinraum umfasst vier Ebenen mit 1500 m² Reinraumfläche. Dort können auf 150 mm Siliziumsubstraten Mikrosysteme und CMOS-Schaltkreise entwickelt und hergestellt werden etwa für Mikrospiegel oder Laserprojektoren. In die Modernisierung und Erweiterung des Fraunhofer IPMS sowie in den Bau des neuen Reinraums einschließlich moderner Ausrüstung haben EU, Bund und Land 50 Millionen Euro investiert. Knapp zwei Drittel der Kosten trug die EU. Bund und Land steuerten je 20 Prozent bei. »Wenn wir die Innovationskraft Deutschlands stärken wollen, dann brauchen wir auch eine moderne und leistungsstarke Infrastruktur wie hier in Dresden«, so Prof. Hans-Jörg Bullinger, Präsident der Fraunhofer-Gesellschaft, bei der Einweihung der Erweiterungsbauten.

Das Fraunhofer IPMS gehört schon heute zu den weltweit führenden Adressen für Forschung und Entwicklung von Mikro-Elektro-Mechanischen Systemen (MEMS) und Mikro-Opto-Elektro-Mechanischen Systemen (MOEMS). »Durch das Angebot, eine Technologieentwicklung bis zur Pilot- und Vorserie zu bringen, werden Forschungs- und Entwicklungskooperationen für Industriepartner und Ausgründungen aus dem Institut noch interessanter«, erwartet Prof. Hubert Lakner, Leiter des IPMS.

»Die Entwicklung von Hochtechnologien ist die beste Basis, sich an der Spitze des internationalen Wettbewerbs zu behaupten und auch in Deutschland international konkurrenzfähige Arbeitsplätze zu generieren. Ich bin davon überzeugt, dass unsere Großinvestition weitere Innovationen beschleunigt und damit auch dauerhaft wirtschaftlichen Erfolg sichert«, ergänzt Dr. Rosalie Zobel, Direktorin bei der Europäischen Kommission für »Bauteile u. Systeme«.

Welche besondere Bedeutung Fraunhofer Institute für den Wirtschaftsstandort Dresden haben, macht Sachsens Staatsministerin für Wissenschaft und Kunst Dr. Eva-Maria Stange deutlich: »Spitzeninstitute wie das Fraunhofer IPMS geben der High-Tech-Industrie in Sachsen wichtige Impulse. Diese angewandte Forschung ist unsere Schnittstelle für die Zukunft, denn sie schafft Arbeitsplätze und Wertschöpfung. So hat sich die MicroEmissive Displays Ltd. aus Edinburgh entschieden, ihre Minibildschirme auf OLED-Basis in Dresden herzustellen – wegen der Kompetenz des Fraunhofer IPMS«.

Seine Expertise im Bereich Organische Leuchtdioden (OLED) will das Fraunhofer IPMS noch weiter ausbauen. Heute wird der Startschuss gegeben für das »Center for Organic Materials and Electronic Devices Dresden« (COMEDD). »Mit COMEDD etablieren wir ein europaweit führendes Zentrum für organische Halbleiter, das produktnahe F&E und die Umsetzung der Forschung in die Pilotfertigung ermöglicht«, sagt Prof. Dr. Karl Leo vom Fraunhofer IPMS. In das Center investieren EU, Land und Bund bis 2009 25 Millionen Euro.

OLEDs gelten als aussichtsreicher Kandidat für eine neue Generation extrem dünner und leichter Flachbildschirme und Beleuchtungen. »COMEDD bietet moderne Infrastruktur für Forschung und Pilot-Fertigung. So kann die technologisch anspruchsvolle Entwicklung auf dem Gebiet organischer Leuchtdioden, Mikrodisplays und organischen Solarzellen auch gegen die Konkurrenz aus Asien bestehen«, erläutert Leo. Das kommt vor allem deutschen und europäischen Unternehmen zu Gute. »Philips wird von seiner strategischen Partnerschaft mit dem Fraunhofer IPMS profitieren. Mit dieser Investition stärkt die Fraunhofer Gesellschaft die Wettbewerbsfähigkeit seiner Kunden in Europa und auf den Weltmärkten«, sagt Dr. Joseph Pankert, Vice President und CTO der Philips Special Lighting Applications.

Die neuen Räume des Fraunhofer IPMS können alle interessierten Bürger am Samstag, dem 15. September 2007, ab 13:00 Uhr besuchen. Dann öffnet das Institut aus dem Dresdner Norden seine Labore und bietet eine Schnuppertour durch seine Reinräume.

Anfahrt: Das Fraunhofer IPMS befindet sich in Flughafennähe in Nachbarschaft zu ZMD und Solarwatt. Parkmöglichkeiten sind vorhanden. Wer mit Bus oder Bahn kommen möchte, fährt mit der Straßenbahn Linie 7 bis »Arkonastraße« oder mit der S-Bahn S2 bis »Grenzstraße«.

Das Fraunhofer IPMS im Überblick

Am Fraunhofer Institut für Photonische Mikrosysteme (IPMS) in Dresden werden kundenspezifische Entwicklungen in den Bereichen Mikroelektronik und Mikrosystemtechnik durchgeführt. Das Fraunhofer IPMS kann von der ersten Idee über Spezifikation und Machbarkeitsuntersuchungen bis zur Prototypenentwicklung Partner sein. In der eigenen Prozesslinie ist eine Pilotfertigung der entwickelten Produkte möglich. Etwa 240 Wissenschaftler arbeiten mit modernstem Equipment an Aufgabenstellungen auf den Gebieten Schaltungsentwurf, Sensoren und Sensorsysteme, mikromechanische Aktoren und Aktorsysteme, bildgebende Mikrosysteme, Bildverarbeitung und Bilddatenübertragung und organische Elektronik.

Während der vergangenen zwei Jahre hat das Fraunhofer IPMS das alte, noch aus DDR-Zeiten stammende Institutsgebäude modernisiert und ausgebaut und seine Reinraumkapazität um einen 1.500 m² großen, vier Ebenen umfassenden neuen Reinraum erweitert. So können auf 150 mm Siliziumsubstraten Mikrosysteme und CMOS-Schaltungen entwickelt und hergestellt werden, so z.B. für Mikrospiegel oder Laserprojektoren. Die gewonnenen Reinraumkapazitäten laden sowohl Industriepartner als auch Ausgründungen aus dem Fraunhofer IPMS ein, die leistungsstarke Infrastruktur für Forschungs- und Entwicklungsaufträge zu nutzen.

Die professionelle Pilot-Fertigung im Fraunhofer IPMS wird durch die ISO 9001 Zertifizierung und das Dreischichtsystem im Reinraum untermauert. Die Weiterentwicklung der Mikrosystemtechnik weltweit verläuft rasant, sowie bedarfs- und anwendungsbezogen. Für das Fraunhofer IPMS und seine Ausrichtung auf Photonische Mikrosysteme / MOEMS zeichnen sich bereits jetzt die im folgenden aufgeführten Forschungs- und Entwicklungsthemen ab, die neue Anwendungsfelder eröffnen würden:

  • MOEMS für die Halbleiter-Lithographie-Roadmap (Deep UV bis Extreme UV: Maskenbelichtung, Waferdirektbelichtung, Masken- und Waferinspektion)
  • MOEMS für hochdynamische Strahlführungs- und -formungssysteme: Adaptive Optik, Pulsshaping (fs-Laser)
  • Technisches Sehen und Spezialdisplays (interaktive Brille, Datenbrille, Helmet Mounted Displays, Mikrodisplays, Displays fürs Auto)
  • Photonic Bandgap (PBG) Systeme / NanoOEMS / Nanooptik

Die Erweiterungsbauten im Überblick

Bauzeit:

September 2005 bis Dezember 2006 (Ready for Equipment)

Invest:

  • Erweiterung und Modernisierung Institutsgebäude: ca. 14 Mio Euro
  • Neuer Reinraum: ca. 36 Mio. Euro, davon ca. 15 Mio. Euro für neue Maschinen und Anlagen
Flächen (Reinraum-Neubau):
Reinraumfläche: ca. 1.500 m²  
Hauptnutzfläche gesamt: ca. 2.225 m²  
Bruttogeschoßfläche: ca. 10.345 m²  
Bruttorauminhalt: ca. 49.435 m³  
Maße (Reinraum-Neubau):
Gebäudelänge: max. 60,20 m  
Gebäudebreite: max. 44,60 m  
Gebäudehöhe: max. 18,50 m  
Ebenen (Reinraum-Neubau):
Ebene 1: Anlieferung, Technikzentralen für Elektro, Reinstwasser, Sanitär, Lagerflächen und Equipmentzubehör
Ebene 2: Lagerflächen, Büroflächen und Medienverteilung
Ebene 3: Schleusen, Übergang zum Institut und Reinraum
Ebene 4: Technikzentralen für Kälte, Wärme, Luft, etc.