Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme
200 mm MEMS-Reinraum
- Low volume & high mix
- 24/5 - 3 Schichtbetrieb
- 45 Ingenieure + 45 Operatoren und Wartungstechniker
- i-line (400nm L&S) und DUV-Cluster (130nm L&S)
- ~1.000 Waferstarts pro Monat
- CMOS-Kompatibilität
- Klasse 10 (ISO 4) auf 1.500 m²
- ISO 9001:2015 Zertifizierung
- MES für Planung, Rückverfolgbarkeit und Dokumentation