Fraunhofer-Institut für Photonische MikrosystemeNanopatterning / E-Beam Lithographie
300 mm Wafer mit Nanopatterning-Teststrukturen.
Die maskenlose Lithografie mit der e-beam Anlage (Vistec SB3050) erlaubt die schnelle und kosteneffektive Nanostrukturierung auf Wafern mit verschiedenen Durchmessern. Das Fraunhofer IPMS bietet vom Layoutentwurf bis zur Fertigstellung des strukturierten Wafers in der CMOS-Fertigungsumgebung alle Prozessschritte für Projektpartner und Kunden an.
- Nanostrukturierung auf verschiedenen Oxiden und Metallen
- Multi-Level-Prozessierung
- Mix und Match Nanopatterning
- kundenspezifische Ätztiefen und Aspektverhältnisse auf Anfrage
- Resist Evaluierung
Anwendungsbeispiele
- Optik: Fresnellinsen, Holographie, Polarisierung, Sensorik, Farbfilter, Metamaterialien, Kalibrationsstrukturen, Blenden
- Medizin: Lab-on-Chip, Genetik, Sensorik
- Nanoimprint Masters für NIL
- Teststrukturen für MEMS und CMOS Anwendungen