Fraunhofer IPMS stellt Anlagen und Prozesse auf größeres Waferformat um

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Im Rahmen einer feierlichen Auftaktveranstaltung hat das Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme IPMS heute im Beisein von Sachsens Staatsministerin für Wissenschaft und Kunst Dr. Eva-Maria Stange und Dresdens Oberbürgermeister Dirk Hilbert gemeinsam mit Gästen aus Wissenschaft, Wirtschaft und Politik die Erweiterung seines Mikrosystemreinraums auf eine 200-mm-Prozesslinie offiziell gestartet. Mit der Erweiterung kann das Institut zukünftig neben Wafern mit einem Durchmesser von 150 mm auch die in der Mikrosystemtechnik industrieüblichen 200-mm-Wafer verarbeiten.